高真空11靶位磁控濺射
- 公告日期 2026-01-09
- 截止日期 2026-01-29
-
所在地區(qū)
上海
- 所屬行業(yè)
詳細(xì)信息
一、項目基本情況
項目編號:1069-264Z20260074
項目名稱:東華大學(xué)高真空11靶位磁控濺射采購項目
預(yù)算金額:390.000000 萬元(人民幣)
采購需求:
產(chǎn)品名稱: 高真空11靶位磁控濺射
數(shù)量:1套
簡要技術(shù)規(guī)格:
* 薄膜生長工藝腔室采用圓柱體超高真空304不銹鋼腔體,腔室直徑不大于580mm、高度不大于450mm;腔體底部采用金屬密封,頂部采用氟橡膠圈密封;腔室頂部需配置重型液壓升降裝置,方便打開腔體進行腔室內(nèi)部操作和檢查,更換靶材、清洗和維護真空部件等。
合同履行期限:自合同簽訂并收到東華大學(xué)發(fā)貨通知后起200天到貨并具備安裝條件
本項目( 不接受 )聯(lián)合體投標(biāo)。
二、申請人的資格要求:
1.滿足《中華人民共和國政府采購法》第二十二條規(guī)定;
2.落實政府采購政策需滿足的資格要求:
本項目為機電產(chǎn)品國際招標(biāo)項目,相關(guān)法規(guī)與政策均按照《機電產(chǎn)品國際招標(biāo)投標(biāo)實施辦法(試行)》執(zhí)行。
3.本項目的特定資格要求:3.1投標(biāo)人或制造商(如適用)有效的營業(yè)執(zhí)照3.2本次招標(biāo)所涉及到的產(chǎn)品若非自主研發(fā)生產(chǎn),投標(biāo)人須提供制造商針對本項目的授權(quán)書3.3參加本次招標(biāo)活動前3年內(nèi),投標(biāo)人在經(jīng)營活動中沒有違法記錄,無利用不正當(dāng)競爭手段騙取中標(biāo),無行賄犯罪記錄;
三、獲取招標(biāo)文件
時間:2026年01月08日 至 2026年01月15日,每天上午9:00至11:00,下午13:00至16:00。(北京時間,法定節(jié)假日除外)
地點:上海市普陀區(qū)曹楊路 528 弄 35 號中世辦公樓5樓或微信公眾號
方式:*******
售價:¥800.0 元,本公告包含的招標(biāo)文件售價總和
四、提交投標(biāo)文件截止時間、開標(biāo)時間和地點
提交投標(biāo)文件截止時間:2026年01月29日 09點30分(北京時間)
開標(biāo)時間:2026年01月29日 09點30分(北京時間)
地點:上海市曹楊路528弄35號中世辦公樓2樓會議室
五、公告期限
自本公告發(fā)布之日起5個工作日。
聯(lián)系方式
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