測量原理:薄膜氧化鋁電容(絕對濕度測量)
關鍵性能
量程:-110℃~+20℃ 露點
輸出:4–20mA 二線制,直接顯示露點或 PPMv
供電:12–30VDC 回路供電
精度:±2℃(典型)
響應:T90 < 10s
應用場景
手套箱、空氣干燥機、醫藥用氣體干燥機、塑料烘干
設備配套、小型干燥系統集成
優勢
? 成本低、安裝極簡、二線制布線
? 適合 OEM 與批量集成
測量原理:薄膜氧化鋁電容(絕對濕度,非相對濕度)
關鍵性能
量程:-110℃~+20℃ 露點(可至 - 110℃)
精度:-100℃以上 ±2℃;-100℃以下 ±3℃
重復性:±0.2℃
耐壓:M1(法蘭)0–75psig;M2(螺紋)0–5000psig(345bar)
工作溫度:-110℃~+50℃
響應:T63 < 5s
應用場景
石化、天然氣、工業氣體、半導體、發電、空氣干燥器、制藥、航空航天
原位測量或配合樣品預處理系統
優勢
? 寬量程、超高壓適配、響應快、校準穩定
? 可測氣體與非水液體
測量原理:薄膜氧化鋁電容(三功能集成:濕度 + 溫度 + 可選壓力)
關鍵性能
量程:-110℃~+20℃ 露點(ppb 級分辨率)
精度:-100℃以上 ±2℃;-100℃以下 ±3℃
防護:IP66/67、本質安全(Ex ia)
布線:支持遠距離(≤900m)
抗污染:強化涂層,適配復雜工況
應用場景
高純氣體(N?、Ar、H?)、半導體制造、氫冷發電機、制氫站、爐氣 / 熱處理
優勢
? 本安、集成溫壓、抗污染、長距離布線
? ppb 級痕量水測量
測量原理:-FX 氧化鋁傳感器(新一代薄膜工藝)
關鍵性能
量程:-110℃~+20℃ 露點
精度:-100℃以上 ±2℃;-100℃以下 ±3℃
重復性:±0.2℃
輸出:4–20mA + HART、背光顯示 + 6 鍵操作
防爆:本安(Ex ia)、IP66/67
內置:NTC 溫度、可選壓力傳感器
校準:NIST/NPL 溯源,可選 ISO17025 認證
應用場景
石油化工、天然氣、煉油、氫氣、發電、半導體、制藥
優勢
? 本安、HART、本地顯示、現場可配置
? 可測氣體與烴類液體
測量原理:同 HygroPro II(-FX 氧化鋁)
關鍵性能
量程:-110℃~+20℃ 露點
精度:±2℃
防爆:隔爆(Ex d IIC T6)、IP66/67
輸出:4–20mA + HART、多參數顯示
壓力:可選 30–5000psig 量程
應用場景
煉油廠、天然氣管道、加氫裝置、危險區工藝氣體
優勢
? 隔爆、強危險區合規、保留 HygroPro II 全部功能
測量原理:平面氧化鋁電容傳感器
關鍵性能
量程:-90℃~+10℃ 露點
精度:±1℃
輸出:4–20mA 回路供電
結構:集成過濾 / 流量調節池、316SS 材質
安裝:螺紋 / 法蘭,現場易校準
應用場景
吸附式干燥機、管道天然氣、工業氣體、氫氣、空壓機后處理
優勢
? 本安、成本低、集成流路、免預處理、可選顯示與非顯示、現場校準簡單
測量原理:聚合物薄膜電容(快速響應、低漂移)
關鍵性能
量程:-15℃~+85℃ 露點
精度:±1℃
重復性:±0.2℃
輸出:4–20mA + 隔離溫度輸出、本地顯示
防爆:FM 防爆、IP67
校準:鹽瓶現場快速校準
應用場景
石化、天然氣、工業氣體、半導體、爐氣、制藥、航空航天
優勢
? 聚合物電容、響應快、校準穩、寬溫、現場易校準
測量原理:可調諧二極管激光吸收光譜(TDLAS)
關鍵性能
量程:0–5000ppm(CO? 0–1000ppm);露點 -71℃~-2.6℃
精度:±1% 讀數或 ±2ppm(取大)
響應:T90 < 1s
特點:無接觸、無耗材、免維護、抗污染
應用場景
天然氣脫水(TEG)、天然氣輸送 / 計量、CO?驅油、金屬熱處理爐氣、重整氫循環氣
優勢
? 極速響應、無漂移、免維護、抗污染、非接觸
測量原理:冷鏡冷凝法(物理原理,溯源 NIST)
關鍵性能
量程:-80℃~+85℃ 露點
精度:±0.1℃~±0.2℃(最高)
特點:自動鏡面清潔(PACER)、多傳感器可換、以太網通訊
應用場景
計量校準、實驗室標準、傳感器校驗、高精度工藝控制
優劣勢
? 最高精度、物理原理、無漂移、溯源性強
| 型號 | 技術原理 | 露點量程 | 精度 | 防爆 | 通訊 | 核心優勢 | 典型應用 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Veridri | 氧化鋁 | -110~+20℃ | ±2~3℃ | 無 | 4–20mA | 低成本、二線制 | OEM、干燥機 |
| M 系列 | 氧化鋁 | -110~+20℃ | ±2~3℃ | 本安可選 | 無 | 寬量程、超高壓 | 工業氣體、石化 |
| MISP2 | 氧化鋁 | -110~+20℃ | ±2~3℃ | 本安 | 無 | 集成溫壓、抗污染 | 高純氣、制氫 |
| HygroPro II | 氧化鋁 (-FX) | -110~+20℃ | ±2~3℃ | 本安 | HART | 顯示、HART、本安 | 危險區工藝 |
| HygroPro XP | 氧化鋁 (-FX) | -110~+20℃ | ±2~3℃ | 隔爆 | HART | 隔爆、強危險區 | 煉油、加氫 |
| MMY30 | 氧化鋁 | -90~+10℃ | ±1℃ | 本安 | 4–20mA | 集成流路、經濟型 | 干燥機、天然氣 |
| MMR31 | 聚合物 | -15~+85℃ | ±1℃ | 本安 | 4–20mA | 快速響應、易校準 | 通用工業 |
| Aurora TDLAS | 激光 | -71~-2.6℃ | ±1% 讀數 | 本安 / 隔爆 | 數字 | 極速、無漂移 | 天然氣、爐氣 |
| Optica | 冷鏡 | -80~+85℃ | ±0.1~0.2℃ | 無 | 以太網 | 最高精度、校準 | 實驗室、計量 |
痕量水(ppb 級,-80℃以下):優先 M 系列、MISP2、HygroPro II/XP(氧化鋁)
危險區:本安選 HygroPro II;隔爆選 HygroPro XP
快速響應 / 無漂移:Aurora TDLAS(激光)
高精度校準 / 實驗室:Optica(冷鏡)
經濟型 / 干燥機:Veridri、MMY30
通用工業 / 寬溫:MMR31(聚合物)
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